一种具有halbach阵列结构效应的瓦型磁体
授权
摘要
本实用新型公开了一种具有halbach阵列结构效应的瓦型磁体，主要包括磁瓦，所述磁瓦内部磁矩呈halbach阵列结构排列，由此磁瓦拼装组合成的磁环工作面表面磁通密度呈良好的正弦波分布，通过磁场成型取向装置由直流电源通过线圈产生取向磁场。本实用新型改变传统磁瓦成型过程中平行取向或者辐射取向的方式，设计独特的磁场取向成型系统，使得磁瓦内部磁矩呈halbach阵列结构排列。
基本信息
专利标题 ：
一种具有halbach阵列结构效应的瓦型磁体
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921808530.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-25
授权号 ：
CN211701627U
授权日 ：
2020-10-16
发明人 ：
柴晓峰郭强吕欢剑郭德森李辉
申请人 ：
杭州史宾纳科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市临安市青山湖科技城横畈街979号
代理机构 ：
杭州九洲专利事务所有限公司
代理人 ：
陈继亮
优先权 ：
CN201921808530.3
主分类号 ：
H02K1/06
IPC分类号 ：
H02K1/06 H02K15/00 H02K1/17 H02K1/27 H02K15/03
法律状态
2020-10-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
