真空镀膜设备用石英晶体探头挡板机构
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空镀膜设备用石英晶体探头挡板机构，包括安装在真空腔室内部的检测仪探头，检测仪探头连接有水冷管，在真空腔室内部还固定有挡板安装板，在挡板安装板上设有与检测仪探头相对应的掩遮挡板，掩遮挡板通过安装块与挡板安装板铰接，安装块的另一端铰接有挡板推杆，挡板推杆穿过真空腔室壁延伸至真空腔室外部，挡板推杆通过高真空焊接波纹管和真空腔室壁密封连接，并通过转接板与驱动气缸连接。本实用新型的气动执行元件安装在真空腔室外部，不会由于驱动部件的漏气而影响真空腔室内部真空压力，其结构紧凑，性能稳定。
基本信息
专利标题 ：
真空镀膜设备用石英晶体探头挡板机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921816370.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-28
授权号 ：
CN210657122U
授权日 ：
2020-06-02
发明人 ：
刘国利周毅李国强
申请人 ：
湖南玉丰真空科学技术有限公司
申请人地址 ：
湖南省湘潭市九华示范区大众东路2号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921816370.7
主分类号 ：
C23C14/54
IPC分类号 ：
C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/54
镀覆工艺的控制或调节
法律状态
2020-06-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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