高填方边坡及深回填土区隧道暗挖进洞支护结构
授权
摘要
本实用新型提供的高填方边坡及深回填土区隧道暗挖进洞支护结构，包括桩基、冠梁、拱架和底支护；桩基有多个且均匀间隔设置在隧道两侧；冠梁有两个，且每个冠梁设置在位于隧道同一侧全部桩基顶面；拱架有多个，每个拱架均设置在隧道两侧相对设置的两个桩基上方；底支护有多个且设置在隧道底部，每个底支护两端分别与隧道两侧的桩基连接；拱架、桩基以及底支护共同在同一隧道截面的投影内形成闭环支护进洞结构。通过设置两排桩基以克服深回填土区地基承载力差的问题，通过在桩基上施作拱架，以将进洞口从边坡处向外大幅延伸以防止边坡灾害发生时造成人员、设备损害，通过在桩基间连接底支护以形成闭环支护进洞结构，提高了进洞口结构稳定性。
基本信息
专利标题 ：
高填方边坡及深回填土区隧道暗挖进洞支护结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921816713.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-28
授权号 ：
CN211174135U
授权日 ：
2020-08-04
发明人 ：
邹光炯易谊周捷彭辉张荣梅乐胜宋何阳
申请人 ：
重庆市轨道交通设计研究院有限责任公司
申请人地址 ：
重庆市渝北区金童路轻轨童家院子综合基地
代理机构 ：
重庆棱镜智慧知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李兴寰
优先权 ：
CN201921816713.X
主分类号 ：
E21D11/10
IPC分类号 ：
E21D11/10 E21D11/18
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E21
土层或岩石的钻进；采矿
E21D
竖井；隧道；平硐；地下室
E21D11/00
隧道、平硐或其他地下洞室，例如，地下大型硐室的衬砌；其衬砌物；现场制衬砌物，例如，通过组装
E21D11/04
用建筑材料衬砌
E21D11/10
用混凝土现场浇注；为此所用的模板或其他设备
法律状态
2020-08-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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