光源系统
授权
摘要

本实用新型公开了光源系统,其特征在于,所述光源系统包括:发光阵列;收集透镜,用于对所述发光阵列出射的光束进行收集;光整形装置,设置于所述收集透镜的出射光光路上,所述光整形装置包括用于第一面和与第一面相背的第二面,所述第一面包括多个用于对入射光进行整形的第一表面结构和第二表面结构,其中所述第一表面结构和第二表面结构具有不同曲率;聚光系统,所述聚光系统用于对所述光整形装置出射的光束收集并投射于目标平面。本实用新型的光整形装置包括曲率不同的第一表面结构与第二表面结构,从而使得光束进行不同的角度整形,以使得在目标平面上形成光斑时,光斑的中心亮度大于边缘亮度。以适应不同的应用场合。

基本信息
专利标题 :
光源系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921818543.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-24
授权号 :
CN211554499U
授权日 :
2020-09-22
发明人 :
张权胡军楚
申请人 :
深圳市绎立锐光科技开发有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市南山区西丽街道茶光路南侧深圳集成电路设计应用产业园411-1室
代理机构 :
深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
李庆波
优先权 :
CN201921818543.9
主分类号 :
G02B27/09
IPC分类号 :
G02B27/09  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/09
其他位置不包括的光束整形,例如改变横截面积
法律状态
2020-09-22 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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