二氧化氯产生装置
授权
摘要
本实用新型涉及二氧化氯产生装置。本实用新型的课题在于提供一种装置，该装置能够以相比于以往的二氧化氯产生装置为更简易的构成，来长期稳定地产生二氧化氯。所述课题的解决手段为提供一种利用亚氯酸盐水溶液与催化剂的反应的新颖二氧化氯产生装置。
基本信息
专利标题 ：
二氧化氯产生装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921829046.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-28
授权号 ：
CN211595036U
授权日 ：
2020-09-29
发明人 ：
辻本翔平
申请人 ：
大幸药品株式会社
申请人地址 ：
日本国大阪府吹田市内本町3丁目34番14号
代理机构 ：
北京戈程知识产权代理有限公司
代理人 ：
程伟
优先权 ：
CN201921829046.9
主分类号 ：
C01B11/02
IPC分类号 ：
C01B11/02
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素；其化合物
C01B11/00
卤素的氧化物或含氧酸；其盐类
C01B11/02
氯的氧化物
法律状态
2020-09-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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