一种圆柱状光学凸透镜去水印装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种圆柱状光学凸透镜去水印装置，其主要由机架、镜面去水印模具、与镜面去水印模具连接的电机、支撑座、旋转压板、滑块、弹簧Ⅰ、硬质橡胶垫、弧型压板和驱动装置等部件构成；本实用新型采用单个去水印的方式对圆柱状光学凸透镜进行去水印，在去水印的过程中，通过设置的旋转压板、弹簧、硬质橡胶垫、滑块等部件形成夹持缓冲结构，通过在实际使用时将圆柱状光学凸透镜夹持，使其能够固定，并且在去水印的过程中，在弹簧及滑块的作用下，能够实现轴向滑动，能够有效的避免在圆柱状光学凸透镜的表面与镜面去水印模具接触时发生碰撞，避免损伤透镜表面，出现新的划痕，进而提高圆柱状光学凸透镜的质量。
基本信息
专利标题 ：
一种圆柱状光学凸透镜去水印装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921833180.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-29
授权号 ：
CN210731992U
授权日 ：
2020-06-12
发明人 ：
黄弢黄立新杨文杰向见蓉曾红敏苟洪群岳艳红张春燕刘永强
申请人 ：
四川炬科光学科技有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市都江堰市四川都江堰经济开发区泰兴大道18号
代理机构 ：
成都嘉企源知识产权代理有限公司
代理人 ：
吴宇
优先权 ：
CN201921833180.6
主分类号 ：
B24B13/00
IPC分类号 ：
B24B13/00 B24B13/005 G02B3/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B13/00
为磨削或抛光透镜上的光学表面和其他工件上相似形状表面设计的机床或装置及其附件
法律状态
2020-06-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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