一种毫米波可控温背景辐射测量室
授权
摘要
本实用新型公开了一种毫米波可控温背景辐射测量室，包括支撑隔热层、均匀背景层、透波隔热层、温度传感器、进气口、气体制造单元、温度控制单元、电源供给单元；支撑隔热层、均匀背景层和透波隔热层组成半球形三层结构；支撑隔热层采用真空金属壁，均匀背景层中铺满吸波材料，透波隔热层采用泡沫材料。气体制造单元通过进气口向均匀背景层灌输预设温度的气体，并根据多个温度传感器实时反馈的罩内温度自动调整气体制造单元的运行功率，维持吸波材料温度在温控范围内的某一指定温度值。该设备可实现在背景环境各个方向上具有均匀的毫米波辐射，以实现对物体毫米波辐射测量中环境因素的控制，通过提高待测物品与环境的亮温差异，提高测量精度。
基本信息
专利标题 ：
一种毫米波可控温背景辐射测量室
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921841599.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-30
授权号 ：
CN211086143U
授权日 ：
2020-07-24
发明人 ：
胡飞苏金龙郭泰华
申请人 ：
华中科技大学
申请人地址 ：
湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
代理机构 ：
华中科技大学专利中心
代理人 ：
李智
优先权 ：
CN201921841599.6
主分类号 ：
G01N22/00
IPC分类号 ：
G01N22/00 G05D23/19
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N22/00
利用微波或者无线电波，即具有一毫米或更大的波长的电磁波测试或分析材料
法律状态
2020-07-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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