一种夹层流真空紫外反应装置
专利权的终止
摘要

本实用新型公开了一种夹层流真空紫外反应装置,它包括反应器(9)、双层石英套管(4)和低压汞灯(1),反应器(9)顶口盖有密封盖(11),双层石英套管(4)穿过密封盖(11)伸入反应器(9)下部,双层石英套管内腔安装低压汞灯(1),双层石英套管(4)顶口装有橡胶盖(6),电源线(13)穿过所述橡胶盖(6)连接于低压汞灯(1)安装座上,双层石英套管(4)具有夹层流道(3),双层石英套管外壁与反应器内壁之间构成反应器内腔(8),在夹层流道(3)上方开有进水口(5),夹层流道(3)下底开有连通反应器内腔(8)的过流孔(7),反应器内腔(8)上部开设有出水口(10)。本实用新型提高了污染物的降解效率。

基本信息
专利标题 :
一种夹层流真空紫外反应装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921846543.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-30
授权号 :
CN210915414U
授权日 :
2020-07-03
发明人 :
赵志伟龙雨琦耿聰
申请人 :
重庆大学
申请人地址 :
重庆市沙坪坝区沙正街174号
代理机构 :
重庆大学专利中心
代理人 :
唐开平
优先权 :
CN201921846543.X
主分类号 :
C02F1/32
IPC分类号 :
C02F1/32  C02F101/30  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F1/00
水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先)
C02F1/30
辐射法
C02F1/32
用紫外线的
法律状态
2021-10-19 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C02F 1/32
申请日 : 20191030
授权公告日 : 20200703
终止日期 : 20201030
2020-07-03 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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