等离子源防护装置
授权
摘要
本实用新型属镀膜机附属配件领域，尤其涉及一种等离子源防护装置，包括底层防护套（1）及上侧面防护套（2）；所述底层防护套（1）的底部外延固定设有缝隙遮挡环板（101）；所述上侧面防护套（2）与底层防护套（1）活动套接；在所述上侧面防护套（2）的侧壁纵向开有组装孔（201）；在所述上侧面防护套（2）的顶部固定设有防护环（202）；在所述上侧面防护套（2）的侧壁对应组装孔（201）位置固定设有鼻子形防护罩（203）。本实用新型结构简单，易于制造，使等离子源的电极及气源连接不受镀膜影响，同时不影响等离子源的发射特性，延长了对等离子源的维护周期和使用寿命，提升了等离子源工作稳定性。
基本信息
专利标题 ：
等离子源防护装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921878301.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-04
授权号 ：
CN210765474U
授权日 ：
2020-06-16
发明人 ：
王忠连任少鹏高鹏金秀班超杨文华白永浩王伟张玲玲
申请人 ：
沈阳仪表科学研究院有限公司
申请人地址 ：
辽宁省沈阳市大东区北海街242号
代理机构 ：
沈阳亚泰专利商标代理有限公司
代理人 ：
郭元艺
优先权 ：
CN201921878301.9
主分类号 ：
C23C14/02
IPC分类号 ：
C23C14/02 C23C16/02
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/02
待镀材料的预处理
法律状态
2020-06-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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