一种集成式接近开关及系统
授权
摘要
本实用新型属于集成式接近开关，具体涉及一种集成式接近开关及系统，解决了现有技术中霍尔接近开关无法实现全自动化标准生产和体积大的技术问题。其中，集成式接近开关包括霍尔集成电路，以及设置于霍尔集成电路背面的磁性薄膜层，霍尔集成电路和磁性薄膜层之间设有绝缘层，所述磁性薄膜层的N极在上S极在下或S极在上N极在下；霍尔集成电路、绝缘层和磁性薄膜层封装于一体；或将磁性薄膜层替换为磁铁。该集成式接近开关还可以用于集成式接近开关系统，将磁性物体与集成式接近开关相对布置。
基本信息
专利标题 ：
一种集成式接近开关及系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921878365.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-04
授权号 ：
CN210867636U
授权日 ：
2020-06-26
发明人 ：
张文伟宋瑞潮
申请人 ：
中国科学院西安光学精密机械研究所;西安中科阿尔法电子科技有限公司
申请人地址 ：
陕西省西安市高新区新型工业园信息大道17号
代理机构 ：
西安智邦专利商标代理有限公司
代理人 ：
史晓丽
优先权 ：
CN201921878365.9
主分类号 ：
H03K17/95
IPC分类号 ：
H03K17/95
相关图片
法律状态
2020-06-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN210867636U.PDF
PDF下载
