一种复合扫描弧源磁场装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种复合扫描弧源磁场装置，包括靶材、磁场发生装置和控制电源，所述磁场发生装置包括电磁组和永磁组，电磁组和永磁组置于靶材的同一侧，且电磁组、永磁组以及靶材共中轴线，所述控制电源与电磁组相连接，通过设置控制电源输出的电流大小、方向和脉冲频率使得耦合后的磁拱发生偏移，该复合扫描弧源磁场装置，通过电磁组产生的磁场与永磁组产生的磁场互相耦合，达到所需要的磁场强度并使磁场强度产生扫描移动，同时，环套放置的电磁组和永磁组能够获得不同的磁场强度和磁场位形，复合磁场装置的结构更为精简，磁场控制方便，复合磁场有效提高了靶材利用率，减少了液滴的产生。
基本信息
专利标题 ：
一种复合扫描弧源磁场装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921885070.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-01
授权号 ：
CN211170860U
授权日 ：
2020-08-04
发明人 ：
周敏夏文斌朱岩王文宝李军旗
申请人 ：
深圳精匠云创科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙华区龙华街道东环二路二号富士康科技园D1区塑模厂1层及夹层A区
代理机构 ：
深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司
代理人 ：
许春晓
优先权 ：
CN201921885070.4
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2020-08-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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