一种用于医用同位素生产靶的水冷机构
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摘要
本实用新型涉及医用同位素生产靶的技术领域，尤其是涉及一种用于医用同位素生产靶的水冷机构。一种用于医用同位素生产靶的水冷机构，包括相连接的医用同位素生产靶靶体、生产靶前端盖以及水冷密封板，所述医用同位素生产靶靶体的其中一端成型有冷却槽，冷却槽包括进水槽、出水槽以及连接进水槽和出水槽的热交换槽，所述水冷密封板上开设有与进水槽相连的进水孔以及与出水槽相连通的出水孔。通过进水孔向冷却槽内注入冷却水，冷却水从净水槽经过热交换槽后进入出水槽，然后通过出水孔排出。由于是通过冷却水将热量带走，而且后续还会不断向冷却槽内输入新的冷却水，因此能够使得水冷机构一致维持在高效降温的状态。
基本信息
专利标题 ：
一种用于医用同位素生产靶的水冷机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921889672.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-04
授权号 ：
CN211125063U
授权日 ：
2020-07-28
发明人 ：
王飞宋国芳贾先禄刘景源杨光
申请人 ：
中国原子能科学研究院
申请人地址 ：
北京市房山区新镇北坊
代理机构 ：
北京维正专利代理有限公司
代理人 ：
卓凡
优先权 ：
CN201921889672.7
主分类号 ：
G21G1/10
IPC分类号 ：
G21G1/10 H05H6/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21G
化学元素的转变；放射源
G21G1/00
用于以电磁辐射、微粒辐射或粒子轰击的方法转变化学元素的装置，例如生产放射性同位素
G21G1/04
在核反应堆或粒子加速器外部的
G21G1/10
用带电粒子轰击
法律状态
2020-07-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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