一种射频电源切换装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种射频电源切换装置，涉及射频电源技术领域。本实用新型包括：射频电源；射频电源上设置有射频输入端、第一射频输出端以及第二射频输出端；射频电源上还设置有位置切换开关；第一射频输出端与第二射频输出端并联；位置切换开关切换到第一射频档位时，射频电源与第一射频输出端连通；位置切换开关切换到第二射频档位时，射频电源与第二射频输出端连通。本实用新型通过位置切换开关切换射频电源分别与第一射频输出端、第二射频输出端连接；实现同一射频电源通过位置切换开关切换为不同的磁控溅射镀膜设备供电，降低成本；同时避免拆卸线缆，便于操作，适用性强。
基本信息
专利标题 ：
一种射频电源切换装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921893495.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-05
授权号 ：
CN210683930U
授权日 ：
2020-06-05
发明人 ：
姜寰
申请人 ：
沈阳中科汉达科技有限公司
申请人地址 ：
辽宁省沈阳市东陵区白塔镇大羊安村
代理机构 ：
北京久维律师事务所
代理人 ：
邢江峰
优先权 ：
CN201921893495.X
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-06-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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