三电极体系可控电化学辅助力流变超精密抛光装置
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摘要
一种面向复杂曲面加工的三电极体系可控电化学辅助力流变超精密抛光装置，包括工作电极模块、对电极模块、参比电极模块、电化学工作站、力流变抛光机、抛光液池和力流变抛光液，工作电极模块固定安装在力流变抛光机上，抛光工件作为工作电极与抛光液池内的力流变抛光液接触，与电化学工作站连接；对电极模块固定安装在力流变抛光机上，对电极与力流变抛光液接触，与电化学工作站相连；参比电极模块固定安装在力流变抛光机上，参比电极与力流变抛光液接触，与电化学工作站相连。本实用新型通过优化电化学反应和力流变机械力的协同作用，实现复杂曲面高表面完整性加工。同时，力流变抛光液是水基溶液，比热容大，可以有效抑制热的影响。
基本信息
专利标题 ：
三电极体系可控电化学辅助力流变超精密抛光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921917195.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-08
授权号 ：
CN211760249U
授权日 ：
2020-10-27
发明人 ：
吕冰海江亮王佳焕周亚峰陈宇山邵琦袁巨龙
申请人 ：
浙江工业大学;西南交通大学
申请人地址 ：
浙江省杭州市下城区朝晖六区潮王路18号
代理机构 ：
杭州斯可睿专利事务所有限公司
代理人 ：
王利强
优先权 ：
CN201921917195.0
主分类号 ：
B24B1/00
IPC分类号 ：
B24B1/00 B24B41/06 B24B41/00 C09G1/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B1/00
磨削或抛光的工艺；与此工艺有关的所用辅助设备
法律状态
2020-10-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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