薄片类介质处理装置

授权

摘要

本实用新型提供了一种薄片类介质处理装置，涉及介质处理设备技术领域，包括机柜、机盖、进出机构、处理机构及限位组件，机盖与机柜活动连接，机盖设有第一出入口；进出机构固设于机盖，进出机构设有进出通道，且进出通道第一端与第一出入口连通；处理机构位于机柜内且与机柜活动连接，处理机构设有第二出入口；机盖打开时，限位组件被配置为使处理机构位于设定位置；机盖闭合时，机盖带动处理机构偏离设定位置，进出机构与处理机构卡接，且进出通道第二端与第二出入口连通。该处理装置的处理机构活动设置于机柜，机盖闭合时，限位组件使得进出机构能与处理机构可靠卡接，使进出通道能与第二出入口可靠地连通，保证薄片类介质能正常输入输出。

基本信息

专利标题：

薄片类介质处理装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921917434.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-11-07

授权号：

CN211077781U

授权日：

2020-07-24

发明人：

王永广高明行博宇刘波波孙建宇

申请人：

山东新北洋信息技术股份有限公司

申请人地址：

山东省威海市环翠区张村镇昆仑路126号

代理机构：

北京超成律师事务所

代理人：

韩梦嘉

优先权：

CN201921917434.2

主分类号：

B65H5/00

IPC分类号：

B65H5/00 B65H29/00