水下通道基坑沿水两岸的端头处的止水帷幕
授权
摘要
本实用新型公开了一种水下通道基坑沿水两岸的端头处的止水帷幕，包括设置于水下通道基坑沿水两岸的端头处的底板以下相互水平连接设置的第一高压旋喷桩和第二高压旋喷桩，位于水下通道基坑底板以上与所述第一高压旋喷桩垂直衔接的第三高压旋喷桩；所述第二高压旋喷桩、第三高压旋喷桩及其下第一高压旋喷桩位于所述水下通道基坑沿水两岸的端头处的基坑围护桩的内侧。本实用新型能够止水效果好，能够消除或者降低水下通道基坑发生渗漏的问题。
基本信息
专利标题 ：
水下通道基坑沿水两岸的端头处的止水帷幕
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921951932.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-08
授权号 ：
CN211498907U
授权日 ：
2020-09-15
发明人 ：
叶枫
申请人 ：
上海建工二建集团有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区福山路33号5楼D座
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921951932.9
主分类号 ：
E02D19/18
IPC分类号 ：
E02D19/18
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D19/00
保持地下基础地段或其他面积的干燥
E02D19/06
地下水的节制
E02D19/12
通过阻止和截断地下水流
E02D19/18
通过使用密封护墙
法律状态
2020-09-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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