一种真空渗碳工艺用渗碳炉炉内气氛流动装置

授权

摘要

本实用新型公开了一种真空渗碳工艺用渗碳炉炉内气氛流动装置，包括渗透炉本体、支撑架和转轴，所述渗透炉本体内壁下端安装有支撑台，所述渗透炉本体上端外壁设置有炉盖，所述炉盖内部嵌入安装有密封轴承，所述密封轴承内部转动安装有转轴，所述渗透炉本体内部上端设置有支撑架，所述支撑架内壁下端对称安装有连接架，所述支撑架上端外壁焊接有固定块，所述固定块上表面开设有限位槽，所述转轴贯穿密封轴承一端设置于限位槽内部，所述转轴内部和限位槽内壁一侧均开设有通孔。本实用新型通过设置渗透炉本体、支撑架、通孔和螺钉，达到了便于拆卸支撑架的效果，避免扇叶位于渗透炉本体内部不便于清洗，提高了清洗效率，提高了设备实用性。

基本信息

专利标题：

一种真空渗碳工艺用渗碳炉炉内气氛流动装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921955771.0

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-11-13

授权号：

CN211079310U

授权日：

2020-07-24

发明人：

张迎晓袁忠友

申请人：

郑州飞虹热处理设备制造有限公司

申请人地址：

河南省郑州市高新技术产业开发区化工路40号8幢东1单元3层05号

代理机构：

代理人：

优先权：

CN201921955771.0

主分类号：

C23C8/20

IPC分类号：

C23C8/20