一种产生特殊聚焦光斑的位相板
授权
摘要
本实用新型公开了一种产生特殊聚焦光斑的位相板。该位相板呈圆形，通过其表面的结构对入射光进行相位调制，产生特殊聚焦光斑。其特征在于该位相板具有圆形的相位分布，能够使透过的平行光束在聚焦平面产生特殊聚焦光斑，同时，改变入射光的波长还可以得到不同大小的聚焦光斑。在光刻领域、尤其是无掩膜光刻领域有着广阔的应用前景。
基本信息
专利标题 ：
一种产生特殊聚焦光斑的位相板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921958560.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-13
授权号 ：
CN211628003U
授权日 ：
2020-10-02
发明人 ：
马超然李旸晖郭璐璐陈伟
申请人 ：
中国计量大学
申请人地址 ：
浙江省杭州市下沙高教园区学源街258号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921958560.2
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-10-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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