一种管式PECVD的电极机构
授权
摘要
本实用新型公开了一种管式PECVD的电极机构，包括电极导杆，所述电极导杆的左侧设置有连接管，所述连接管的左侧设置有第一卡动机构，所述电极导杆的右侧设置有第二连接座，第一固定机构，所述第一固定机构的底端设置有第一底座，所述第一底座的前后两端均螺纹连接有第一螺栓，第二固定机构，所述第二固定机构的底端设置有第二底座，所述第二底座的前后两端均螺纹连接有第二螺栓。该管式PECVD的电极机构，该装置可有效的方便使用者对电极导杆进行快速的安装和拆卸，操作简单，使用更加方便，当电极导杆损坏时方便对其进行更换，增加了电极导杆使用时的便利性和实用性，更符合实际的使用需求。
基本信息
专利标题 ：
一种管式PECVD的电极机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921963101.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-13
授权号 ：
CN211112212U
授权日 ：
2020-07-28
发明人 ：
陈金元
申请人 ：
理想万里晖真空装备（泰兴）有限公司
申请人地址 ：
江苏省泰州市泰兴高新技术产业开发区环溪路北侧
代理机构 ：
苏州国卓知识产权代理有限公司
代理人 ：
刘静宇
优先权 ：
CN201921963101.3
主分类号 ：
C23C16/50
IPC分类号 ：
C23C16/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
法律状态
2020-07-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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