一种磁瓦端面清洗机构

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摘要

一种磁瓦端面清洗机构，包括底座，所述底座包括长端板和短端板，所述长端板上固定宽度可调节的有导向条，所述导向条的尾端设有转向气缸，所述转向气缸上设有L型转向推板，所述L型转向推板的短边用于磁瓦转向，长边可在转向气缸动作时阻挡后续输送的磁瓦，起到限位作用；所述短端板上固定有清洗侧栅格挡条Ⅰ、清洗侧栅格挡条Ⅱ以及设于二者之间的磁瓦压条，所述清洗侧栅格挡条Ⅰ的长度未超出导向条的近端，清洗侧栅格挡条Ⅱ的长度超过导向条的远端，所述清洗侧栅格挡条Ⅰ和清洗侧栅格挡条Ⅱ的外侧均设有高压清洗喷嘴。本实用新型具有以下积极效果：能显著提高磁瓦端面的清洁度，提高产品的外观良率。

基本信息

专利标题：

一种磁瓦端面清洗机构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921969262.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-11-15

授权号：

CN211100402U

授权日：

2020-07-28

发明人：

袁涵舒书寇清胡盛青陈晓宇

申请人：

湖南航天磁电有限责任公司

申请人地址：

湖南省长沙市望城区金星北路1106号

代理机构：

长沙星耀专利事务所(普通合伙)

代理人：

宁星耀

优先权：

CN201921969262.3

主分类号：

B08B3/02

IPC分类号：

B08B3/02