密排管棚的顶进工作坑结构
授权
摘要

本实用新型公开了一种密排管棚的顶进工作坑结构,包括:沿工作坑的长度方向依次间隔设置的竖井和井间区域,其中,竖井包括井壁和井底,井壁由钢格栅钢架与C25喷射混凝土浇筑而成,井底由钢格栅钢架与现浇混凝土浇筑而成,井间区域的临土面设置有与井壁结构相同的衬砌结构,所述衬砌结构的钢格栅钢架与井壁的钢格栅钢架以连接板的形式连接,井间区域的底部由钢格栅钢架与现浇混凝土浇筑而成。该密排管棚的顶进工作坑结构,结构合理,成本低,安全性高,不会给后续地下工程的穿越造成障碍,还便于后期破除。

基本信息
专利标题 :
密排管棚的顶进工作坑结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921984385.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-11-18
授权号 :
CN211200463U
授权日 :
2020-08-07
发明人 :
蔡晓丽康晶李云龙马树卫王堃刘阳高大王刚李贤东王哲朱浩博张国成
申请人 :
沈阳市市政工程设计研究院有限公司
申请人地址 :
辽宁省沈阳市沈河区文萃路37号
代理机构 :
沈阳维特专利商标事务所(普通合伙)
代理人 :
李丹
优先权 :
CN201921984385.4
主分类号 :
E02D29/12
IPC分类号 :
E02D29/12  
相关图片
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程;基础;疏浚
E02D
基础;挖方;填方;地下或水下结构物
E02D29/00
地下或水下结构物;挡土墙
E02D29/12
人孔井;其他检查室或人可进入的室;其附属物
法律状态
2020-08-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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