新型离子研磨系统平面加工样品水平方向上的定位结构
授权
摘要
本实用新型的一种新型离子研磨系统平面加工样品水平方向上的定位结构，配合样品定位座设置，样品定位座上设置一样品载板，其特征在于：包括样品定位架，样品定位架在朝向样品定位座一面设置样品承载夹具，样品承载夹具包括样品定位架上设置的若干在垂直方向上竖立的样品调节螺丝，样品定位架上设有若干滑槽，滑槽自样品定位架内侧向外侧延伸，样品调节螺丝在滑槽滑动以适应不同大小的样品；样品调节螺丝配设一样品夹块，样品夹块固定安装在样品调节螺丝下端以夹持样品，样品调节螺丝在滑槽滑动以带动样品夹块夹持不同大小样品。本实用新型的样品定位一次完成，不用反复操作，节省定位时间。
基本信息
专利标题 ：
新型离子研磨系统平面加工样品水平方向上的定位结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921984619.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-15
授权号 ：
CN212083278U
授权日 ：
2020-12-04
发明人 ：
张雄
申请人 ：
甬矽电子（宁波）股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市余姚市中意宁波生态园兴舜路22号
代理机构 ：
浙江杭州金通专利事务所有限公司
代理人 ：
邓世凤
优先权 ：
CN201921984619.5
主分类号 ：
G01N23/2202
IPC分类号 ：
G01N23/2202 G01N23/2204
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/22
通过测量材料的二次发射
G01N23/2202
样品制备
法律状态
2020-12-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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