调整芯片吸盘与基板吸盘平行度的准直光路结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种调整芯片吸盘与基板吸盘平行度的准直光路结构,解决了现有键合设备在键合前通过自适应调整芯片吸盘与基板吸盘之间的平行度存在调整不到位导致键合产品质量低和废品率高的问题。本实用新型通过双准直成像光路对同一靶标在准直成像相机中进行成像;在该成像光路中除带反射镜面的芯片吸盘的反射镜和带反射镜面的基板吸盘的反射镜之外,各棱镜均处于预先设定好的光学系统中,各棱镜的位置和角度均恒定不变,仅调整带反射镜面的芯片吸盘的反射镜,就会改变靶标生成图像A的位置,因此通过调整带反射镜面的芯片吸盘的位置,即可实现芯片吸盘与基板吸盘之间的平行度的调节;实现了芯片吸盘与基板吸盘平行度的大幅度提高。
基本信息
专利标题 :
调整芯片吸盘与基板吸盘平行度的准直光路结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922014602.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-11-20
授权号 :
CN210628268U
授权日 :
2020-05-26
发明人 :
王雁闫瑛狄希远董永谦景灏吕琴红孙丽娜斯迎军高峰
申请人 :
西北电子装备技术研究所(中国电子科技集团公司第二研究所)
申请人地址 :
山西省太原市万柏林区和平南路115号
代理机构 :
山西华炬律师事务所
代理人 :
陈奇
优先权 :
CN201922014602.3
主分类号 :
H01L21/68
IPC分类号 :
H01L21/68 H01L21/67
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/68
用于定位、定向或对准的
法律状态
2020-05-26 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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