一种用于种植屋面与女儿墙交接处的缓冲带结构
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摘要
本实用新型公开了一种用于种植屋面与女儿墙交接处的缓冲带结构，包括种植屋面和女儿墙；所述种植屋面的上端设有隔离墙，所述隔离墙位于女儿墙的内侧，所述隔离墙和女儿墙之间设有集水导流沟，所述集水导流沟的底端设有均匀分布的排水通道，所述隔离墙的上端设有均匀分布的出水槽，具备由出水槽、集水导流沟和排水通道组成的直接导流方式和由出水孔、集水导流沟和排水通道等组成的间接导流方式，能够快速的对种植屋面与女儿墙交接处的积水进行导流，避免积水对植物所产生的不良影响，通过隔离墙和过滤填充层的配合使用，有效避免间接渗透、过滤导流方式所需材料可能对种植土壤造成的不良影响，保证植物的正常生长。
基本信息
专利标题 ：
一种用于种植屋面与女儿墙交接处的缓冲带结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922015091.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-20
授权号 ：
CN211714390U
授权日 ：
2020-10-20
发明人 ：
王恒田悦易立田如意薛钦生顾玲玲张校侦刘斌张献礼姜克祥赵爽王博
申请人 ：
郑州德威机械设备有限公司
申请人地址 ：
河南省郑州市金水区花园路59号21世纪广场4号楼
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201922015091.7
主分类号 ：
E04D13/00
IPC分类号 ：
E04D13/00 E04D13/14 E04D13/04 E04D13/064 A01G9/02
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E04
建筑物
E04D
屋面覆盖层；天窗；檐槽；屋面施工工具
E04D13/00
与屋面覆盖层有关的特殊安排或设施；屋面排水
法律状态
2020-10-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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