测量系统

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摘要

本申请公开了一种测量系统，配置为与处理设备集成，处理设备用于对结构进行光学测量，测量系统包括：支撑组件，用于将处于测量中的结构保持在测量平面中；支架组件；限定照明和收集光通道的光学系统；光学系统包括光源、检测器和光学头；其中，支架组件被配置为移动光学头；并且其中，光源和检测器中的至少一个位于光学头的外部并且与光学头光学耦合。

基本信息

专利标题：

测量系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922021103.7

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-11-19

授权号：

CN211350583U

授权日：

2020-08-25

发明人：

埃拉德·多坦莫舍·万霍特斯克尔希莫·亚洛夫瓦莱里·戴希罗伊·林格尔本亚明·舒尔曼纽希·巴尔·欧恩沙哈尔·巴桑

申请人：

诺威量测设备股份有限公司

申请人地址：

以色列雷霍沃特

代理机构：

北京康信知识产权代理有限责任公司

代理人：

沈丹阳

优先权：

CN201922021103.7

主分类号：

H01L21/66

IPC分类号：

H01L21/66 H01L21/67 G01B11/24 G01N21/27