一种电解铜箔的电解槽

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摘要

本实用新型公开了一种电解铜箔的电解槽，包括电解槽座、两片底板、若干阳极板、两个超声波发生器和两个侧板；所述电解槽座为圆弧形内腔结构，所述底板为圆弧形结构，两片所述底板镜像设置于所述电解槽座内腔中；两个所述超声波发生器镜像设置，并位于所述电解槽座与底板之间靠近所述底板一侧；若干所述阳极板均为弧形结构，依次设置于所述底板远离所述电解槽座一侧，且相邻所述阳极板侧面之间紧密贴合连接；两个所述侧板竖直设置于所述电解槽座的两侧，且所述侧板靠近所述阳极板一侧均设置有两个导气槽。本实用新型通过对应设置超声波发生器和导气槽，使电解时产生的气体能够快速导出；同时对电解液有混合震荡作用，使铜箔沉积更加平整均匀。

基本信息

专利标题：

一种电解铜箔的电解槽

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922021840.7

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-11-21

授权号：

CN211142196U

授权日：

2020-07-31

发明人：

万大勇文孟平陈多锋

申请人：

湖北中一科技股份有限公司

申请人地址：

湖北省孝感市云梦县经济开发区梦泽大道南47号

代理机构：

武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

江慧

优先权：

CN201922021840.7

主分类号：

C25D1/04

IPC分类号：

C25D1/04