深基坑地下结构的内衬结构
授权
摘要
本实用新型提供了一种深基坑地下结构的内衬结构，包括：内衬墙，设于地连墙的内侧且与所述地连墙之间形成有缝隙，所述地连墙包括拼接在一起的多段墙体；以及用于将所述缝隙分隔成上下相邻的多个灌注空腔的隔板结构，连接于所述内衬墙和所述地连墙之间，所述隔板结构的两侧分别搭接于相邻的两段所述墙体。本实用新型解决了解决传统的地连墙防渗堵漏一般采取对整面地连墙进行防渗处理进而存在施工成本高的问题。
基本信息
专利标题 ：
深基坑地下结构的内衬结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922033254.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-22
授权号 ：
CN211446944U
授权日 ：
2020-09-08
发明人 ：
高辉韩杨杨王凯峰杨红岩樊敏李卓朋陈经纬牛立舒吴艳泽
申请人 ：
中国建筑第八工程局有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区世纪大道1568号27层
代理机构 ：
上海唯源专利代理有限公司
代理人 ：
季辰玲
优先权 ：
CN201922033254.4
主分类号 ：
E02D17/04
IPC分类号 ：
E02D17/04 E02D19/18
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D17/00
挖方；挖方边缘的修砌；填方
E02D17/02
基础坑
E02D17/04
基础坑边缘的修砌或加固
法律状态
2020-09-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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