一种高密封性双层抗撞击的密封圈
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摘要
本实用新型公开了一种高密封性双层抗撞击的密封圈，包括上垫圈和下垫圈，所述上垫圈上端固定连接有上密封圈，所述下垫圈下端固定连接有下密封圈，所述上垫圈下端和下垫圈上端均开设有环形对称分布的限位槽，所述上垫圈下端限位槽和下垫圈上端相对应的另一限位槽内固定连接有弹簧。该高密封性双层抗撞击的密封圈，采用双层的设计，提高了密封圈的工作强度和耐磨性，有效延长密封圈的使用寿命，且上垫圈与下垫圈间通过弹簧相连，便于在工作面不平整时，更好的贴合，确保密封圈的密封性能，加强了密封圈的抗撞击性能，且增设的减震环对冲击力，保证了密封圈的完整性和安全性，加强密封圈与工作面的贴合度，进一步确保密封圈的密封效果。
基本信息
专利标题 ：
一种高密封性双层抗撞击的密封圈
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922036977.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-22
授权号 ：
CN211175381U
授权日 ：
2020-08-04
发明人 ：
刘世平高伟亮杨增港
申请人 ：
苏州港阳科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴中区越溪街道旺山工业园木林路
代理机构 ：
苏州翔远专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘计成
优先权 ：
CN201922036977.X
主分类号 ：
F16J15/3284
IPC分类号 ：
F16J15/3284 F16J15/06
法律状态
2020-08-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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