一种炭炭坩埚生产装置
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摘要
本实用新型公开了一种炭炭坩埚生产装置，包括用于盛放坩埚工件的引流装置，所述引流装置上设有进气孔和出气孔，引流装置内设有阻隔装置，所述阻隔装置用于形成流经坩埚内外壁的气流通道，所述进气孔通过所述气流通道与出气孔相连通。所述引流装置包括底座、外限气筒、内限气装置、盖板、垫块和上限气板；所述气流通道包括中央通道、内流通道、中间通道和外流通道。本实用新型中的引流装置可以引导碳源气体均匀地流经工件表面，确保反应均匀，提高工件生产质量。
基本信息
专利标题 ：
一种炭炭坩埚生产装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922051548.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-25
授权号 ：
CN210886219U
授权日 ：
2020-06-30
发明人 ：
历建政许建东
申请人 ：
美尔森银河新材料（烟台）有限公司
申请人地址 ：
山东省烟台市芝罘区只楚工业园华美街5号
代理机构 ：
烟台双联专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
申国栋
优先权 ：
CN201922051548.X
主分类号 ：
C23C16/26
IPC分类号 ：
C23C16/26 C23C16/455 C04B41/85
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/22
以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C16/26
仅沉积碳
法律状态
2020-06-30 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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