混液装置
授权
摘要
该实用新型涉及混液装置，所述混液装置在用于湿法刻蚀时，具有较高的温控能力，能够提高湿法刻蚀制程的生产效率。为解决上述技术问题，以下提供了一种混液装置，包括：液体槽，用于盛放液体；至少两根进液管路，连通至所述液体槽，用于向所述液体槽内通入液体，且其中所述进液管路中包括至少一根温控进液管路，所述温控进液管路上设置有温度控制器。
基本信息
专利标题 ：
混液装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922070660.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-26
授权号 ：
CN210837673U
授权日 ：
2020-06-23
发明人 ：
张丝柳郑晓芬
申请人 ：
长江存储科技有限责任公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市洪山区东湖开发区关东科技工业园华光大道18号7018室
代理机构 ：
上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
董琳
优先权 ：
CN201922070660.8
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 F17D1/08 F17D3/01
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2020-06-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
