一种用于光催化的降解装置

授权

摘要

本实用新型涉及一种用于光催化的降解装置，包括导流槽，所述降解箱的顶部安装混料箱和环形支架，所述降解箱内固定有支撑柱和导流槽，支撑柱的底端固定在降解箱内的底壁上，所述支撑柱上固定有多个呈上下排列的缓流槽，多个所述缓流槽的直径从上至下依次增大，所述导流槽的一端与混料箱连通，所述导流槽的另一端延伸至缓流槽的上方。本实用新型通过设置多个呈上下排列的缓流槽，使液体逐层溢流至相邻的缓流槽内，溢流过程中接受周围降解光源的辐射，溢流过程中液体形成的厚度较薄，辐射能够完全穿透，提高了液体的光催化效果。

基本信息

专利标题：

一种用于光催化的降解装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922077011.0

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-11-27

授权号：

CN211521681U

授权日：

2020-09-18

发明人：

刘东孙俊杰

申请人：

南京公诚节能新材料研究院有限公司

申请人地址：

江苏省南京市建邺区嘉陵江东街18号1栋19层

代理机构：

北京中企鸿阳知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

汪斌

优先权：

CN201922077011.0

主分类号：

C02F1/32

IPC分类号：

C02F1/32