一种用于等离子射流设备的选择性气体吸附罐
授权
摘要
本实用新型涉及等离子体射流设备领域，具体涉及一种用于等离子射流设备的选择性气体吸附罐，包括罐体，所述罐体的一端设有进气管道，罐体的另一端设有出气管道，罐体内设有气体净化管道，所述气体净化管道内填充有吸附滤材，所述进气管道通过气体净化管道与所述出气管道连通，进气管道和出气管道设置为圆柱状，气体净化管道设置为扁平状，进气管道、出气管道和气体净化管道的径向截面面积相等，本实用新型与传统的等离子射流设备气体源相比对气体进行吸附净化，同时通过开启不同位置的阀门进行气体选择，控制流出气体的氧含量，最终达到一个控制等离子设备射流种类的目的。
基本信息
专利标题 ：
一种用于等离子射流设备的选择性气体吸附罐
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922082551.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-27
授权号 ：
CN211799818U
授权日 ：
2020-10-30
发明人 ：
刘威张信华贺华杜建建
申请人 ：
苏州恩奇医疗器械有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市苏州高新区竹园路209号苏州创业园3号楼1403号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201922082551.8
主分类号 ：
B01D53/04
IPC分类号 ：
B01D53/04
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D53/00
气体或蒸气的分离；从气体中回收挥发性溶剂的蒸气；废气例如发动机废气、烟气、烟雾、烟道气或气溶胶的化学或生物净化
B01D53/02
通过吸附作用，例如，制备气相色谱法
B01D53/04
用固定的吸附剂
法律状态
2020-10-30 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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