一种快速产生大量羟基自由基的发生装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种快速产生大量羟基自由基的发生装置，其包括超微纳米气泡发生器、向所述超微纳米气泡发生器的一个进气口内通入臭氧与空气混合气体的混合气体输入装置、向所述超微纳米气泡发生器的另一个输入口注入高速水流的水泵、对所述超微纳米气泡发生器输出的超微纳米气泡进行近紫外光照射的近紫外光源、促进过氧化氢分解生产羟基自由基的光触媒。本实用新型能够快速的、高效的产生大量的羟基自由基，大大提高了水处理效率和效果。
基本信息
专利标题 ：
一种快速产生大量羟基自由基的发生装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922085568.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-28
授权号 ：
CN211470910U
授权日 ：
2020-09-11
发明人 ：
张文
申请人 ：
晶彩无限环境科技（苏州）有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市花桥镇徐公桥路2号中茵广场E区712室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201922085568.9
主分类号 ：
C02F1/72
IPC分类号 ：
C02F1/72 C02F1/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F1/00
水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先）
C02F1/72
氧化法
法律状态
2020-09-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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