电磁反射膜
授权
摘要
本实用新型涉及一种电磁反射膜,包括基材和设置于基材的两个相对表面的第一导电层和第二导电层,第二导电层与第一导电层电连接,第一导电层远离基材的表面设置有凸出结构,凸出结构包括多个凸部。该电磁反射膜通过在导电层表面设置凸出结构,使入射的电磁波在导电层表面发生反射和漫反射,改变电磁波原来的传播方向,进而可对一些区域信号屏蔽和增强指定范围内的电磁波强度。
基本信息
专利标题 :
电磁反射膜
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922103162.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-11-29
授权号 :
CN211062864U
授权日 :
2020-07-21
发明人 :
苏陟高强
申请人 :
广州方邦电子股份有限公司
申请人地址 :
广东省广州市高新技术产业开发区开源大道11号A5栋第六层
代理机构 :
北京品源专利代理有限公司
代理人 :
胡彬
优先权 :
CN201922103162.9
主分类号 :
H01Q15/14
IPC分类号 :
H01Q15/14
法律状态
2020-07-21 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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