焦距可调的UVLED平行光曝光设备及UVLED隧道炉光源...
授权
摘要
本实用新型提供一种焦距可调的UVLED平行光曝光设备，包括UVLED灯、透镜和调节装置，调节装置用以调整所述UVLED灯和透镜之间的焦距，所述焦距可调的UVLED平行光曝光设备还包括安装板，所述调节装置与位于上方的所述安装板固定连接，所述调节装置的另一侧与所述LED灯可调节的固定连接，所述透镜与侧边的所述安装板固定连接，所述UVLED灯位于所述调节装置和透镜之间。本实用新型还提供一种UVLED隧道炉光源高度可调装置。本实用新型可以通过改变UVLED灯和透镜之间的距离，来改变光斑的大小，进而改变敏材料暴露在UVLED光中的范围。
基本信息
专利标题 ：
焦距可调的UVLED平行光曝光设备及UVLED隧道炉光源高度可调装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922118535.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-29
授权号 ：
CN211236561U
授权日 ：
2020-08-11
发明人 ：
钟小波
申请人 ：
深圳市九州星河科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区石岩街道麻布新村恒胜亿物流园A7栋A座五楼
代理机构 ：
深圳市鼎智专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李滔
优先权 ：
CN201922118535.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-08-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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