一种硅片制样装置
授权
摘要
本实用新型提供一种硅片制样装置,所述装置包括:承载台;角度规,所述角度规可拆卸地安装于所述承载台上,所述角度规的上表面包括两个相交的样片固定斜面,所述两个相交的样片固定斜面呈倒置的V形;样片校准机构,所述样片校准机构包括支撑轴和样片挡板,所述支撑轴竖向固定于所述承载台上,所述样片挡板与所述支撑轴活动连接并垂直于所述支撑轴,所述样片挡板可沿所述支撑轴做竖向升降运动,所述样片挡板在所述角度规的上表面的正投影与所述两个相交的样片固定斜面的交线完全重合。根据本实用新型实施例的硅片制样装置,可以准确且高效地将样片固定,从而提高样片测试结果的准确性。
基本信息
专利标题 :
一种硅片制样装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922120360.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-02
授权号 :
CN211205958U
授权日 :
2020-08-07
发明人 :
代斌洲张翔刘思雨蒲以松
申请人 :
西安奕斯伟硅片技术有限公司
申请人地址 :
陕西省西安市高新区锦业路1号都市之门A座1323室
代理机构 :
北京银龙知识产权代理有限公司
代理人 :
许静
优先权 :
CN201922120360.6
主分类号 :
G01N1/28
IPC分类号 :
G01N1/28 G01N1/36 G01N27/04
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N1/00
取样;制备测试用的样品
G01N1/28
测试用样品的制备
法律状态
2020-08-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN211205958U.PDF
PDF下载