一种建筑工程地下结构侧墙施工缝结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种建筑工程地下结构侧墙施工缝结构，包括第一墙体和第二墙体，所述第一墙体底部的左右两侧开设有第一凹槽，所述第一墙体底部的中间处固定连接有第一凸块，所述第一墙体左右两侧的下方开设有第一安装槽，所述第一安装槽的表面开设有第一卡槽，所述第一安装槽的上端开设有第一连接槽，所述第二墙体上表面的中间处开设有第二凹槽，且所述第二凹槽与所述第一凸块相对应。该种建筑工程地下结构侧墙施工缝结构，通过第一凹槽与第二凸块相配合，通过第二凹槽与第一凸块相配合，提高墙体连接时的稳定性，通过第一卡槽与第一卡板相配合，通过第二卡槽与第二卡板相配合，提高安装板连接时的稳定性。
基本信息
专利标题 ：
一种建筑工程地下结构侧墙施工缝结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922124117.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-02
授权号 ：
CN212078024U
授权日 ：
2020-12-04
发明人 ：
邵明秀贺焕楠张贯超秦德春
申请人 ：
邵明秀
申请人地址 ：
天津市河北区中山路10号
代理机构 ：
青岛博展利华知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李芬
优先权 ：
CN201922124117.1
主分类号 ：
E02D29/16
IPC分类号 ：
E02D29/16 E02D31/02
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D29/00
地下或水下结构物；挡土墙
E02D29/16
基础结构接缝的布置或结构
法律状态
2020-12-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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