预制式地下连续墙拼接结构

授权

摘要

本实用新型涉及一种预制式地下连续墙拼接结构，包括：第一墙体、第二墙体、加固板、第一拼接件、第二拼接件和锁紧件；第一墙体和第二墙体长度方向的相对两侧设置有截面为矩形的凸条，且凸条的高度与第一墙体和第二墙体的高度一致；凸条宽度方向的相对两侧均设置有加固板，且两个加固板的长度均大于凸条的长度，第一拼接件的一端固定于第一墙体上的两个加固板之间，第一拼接件的另一端设置有拼接槽，第二拼接件的一端固定于第二墙体上的两个加固板之间，第二拼接件的另一端设置有拼接块，拼接槽和拼接块形状相适配，且相邻的第一拼接件和所述第二拼接件之间通过锁紧件固定。本实用新型具有拆卸比较方便的效果。

基本信息

专利标题：

预制式地下连续墙拼接结构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922132636.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-12-02

授权号：

CN211446884U

授权日：

2020-09-08

发明人：

成传刚陈龙王琦

申请人：

武汉金涛岩土工程有限公司

申请人地址：

湖北省武汉市汉阳区龙阳大道76号九州通大厦17层办公2

代理机构：

代理人：

优先权：

CN201922132636.2

主分类号：

E02D5/20

IPC分类号：

E02D5/20 E02D17/04 E02D19/18