一种硅胶表面涂层处理装置
授权
摘要

本实用新型提供一种硅胶表面涂层处理装置,包括电离腔体、氧气模块、真空模块及电源模块,氧气模块、真空模块均与电离腔体连通,电源模块与电离腔体内的高压电极电连接。通过真空模块将电离腔体内部空气抽干,使电离腔体内部形成真空环境,氧气模块持续向电离腔体内部注入纯氧,电源模块使高压电极产生高压电弧,将氧气电离为高压氧离子,撞击硅胶表面形成羟基分子链。硅胶表面形成羟基后,测试水滴角度,由原来的90°~120°降低到15°~30°,达到可直接喷涂标准。

基本信息
专利标题 :
一种硅胶表面涂层处理装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922135492.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-03
授权号 :
CN212284742U
授权日 :
2021-01-05
发明人 :
廖文杰罗丰羊辉
申请人 :
广东乐普泰新材料科技有限公司
申请人地址 :
广东省东莞市松山湖高新技术产业开发区工业西五路3号
代理机构 :
深圳市合道英联专利事务所(普通合伙)
代理人 :
廉红果
优先权 :
CN201922135492.6
主分类号 :
B05D3/06
IPC分类号 :
B05D3/06  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B05
一般喷射或雾化;对表面涂覆流体的一般方法
B05D
对表面涂布流体的一般工艺
B05D3/00
涂布液体或其他流体的表面的预处理;已有涂层的后处理,例如要用液体或其他流体作后续涂布的已有的涂层的中间处理
B05D3/06
使受辐射
法律状态
2021-01-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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