本实用新型提供一种镀膜设备及其电极，用于在基材表面制备薄膜，其中所述镀膜设备包括一腔体、至少一支架以及一供电装置，其中所述腔体具有一腔室，其中所述腔室适于被通入用于制备该薄膜的气体原料，其中所述支架被设置于所述腔室，其中所述支架用于支撑该基材，其中所述腔体作为正极，其中所述支架作为负极，使得所述腔室内的气体在电压作用下定向地朝向所述支架上的所述基材的方向沉积并最终在所述基材的表面形成所述薄膜，以使所述基材能够最大化数量地布置于所述支架，且满足所有的所述基材的镀膜需求。