一种单层氧化石墨烯制备用真空热处理装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种单层氧化石墨烯制备用真空热处理装置，包括第二横板，第二横板的顶部左侧中间位置处固定安装有支撑架，第二横板的顶部左侧固定安装有第一限位机构，且第一限位机构设置在支撑架的右侧，第一限位机构的顶部通过铰接轴铰接有连接杆，第二横板的顶部右侧通过底座安装有气缸，气缸的左侧输出端与第一限位机构相连接，第二横板的顶部右侧固定安装有支撑杆，且支撑杆设置在气缸的右侧，支撑杆的顶部通过铰接轴铰接有第一横板，第一横板的底部左端通过铰接轴与连接杆顶部相铰接。该单层氧化石墨烯制备用真空热处理装置通过电机带动耐高温橡胶塞左右移动从而加速空气交换速率，便于均匀分布热量。
基本信息
专利标题 ：
一种单层氧化石墨烯制备用真空热处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922153714.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-05
授权号 ：
CN211274579U
授权日 ：
2020-08-18
发明人 ：
张国强
申请人 ：
砥创（苏州）新材料科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市相城区渭塘镇爱格豪路19号中汽零大厦6楼
代理机构 ：
苏州国卓知识产权代理有限公司
代理人 ：
刘静宇
优先权 ：
CN201922153714.7
主分类号 ：
B01J6/00
IPC分类号 ：
B01J6/00 B01J3/02 C01B32/198
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01J
化学或物理方法，例如，催化作用或胶体化学；其有关设备
B01J6/00
锻烧；熔化
法律状态
2020-08-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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