顶排管瓦楞墙高效辐射室
授权
摘要

本实用新型属于加热炉技术领域,尤其涉及到一种顶排管瓦楞墙高效辐射室,主要由炉体、炉墙、立式炉管、顶排管和燃烧器构成;炉墙内表面为纵向的弧形凹槽与凸棱交替横接排列,形成瓦楞形;立式炉管位于炉墙的内侧,置于凹槽中的同一截面轴线上;顶排管水平布置在辐射室顶部。本实用新型将辐射室的炉墙由平面改为对单根炉管同心的柱面结构,提高炉壁反射效率,降低炉管辐射面与反射面温度差,延长炉管使用寿命;在炉辐射室顶增加排管,增加了辐射室的传热面积,加热炉热效率得到提高,提高了加热炉热负荷、减少设备投资。

基本信息
专利标题 :
顶排管瓦楞墙高效辐射室
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922164322.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-05
授权号 :
CN211084825U
授权日 :
2020-07-24
发明人 :
刘智泉吕佳佳燕利斌吴亚辉
申请人 :
大庆华凯石油化工设计工程有限公司
申请人地址 :
黑龙江省大庆市高新区新风路6-2号大庆服务外包产业园C4座400-417室
代理机构 :
大连理工大学专利中心
代理人 :
隋秀文
优先权 :
CN201922164322.0
主分类号 :
F27B17/00
IPC分类号 :
F27B17/00  F27D1/00  
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F27
炉;窑;烘烤炉;蒸馏炉
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉;开式烧结设备或类似设备
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉;开式烧结设备或类似设备
F27B17/00
不包含在F27B 1/00至F27B 15/00中任一组的炉
法律状态
2020-07-24 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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