一种控制抛填体地基沉降结构

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摘要

本实用新型公开了一种控制抛填体地基沉降结构，包括填料坑，所述填料坑的内底壁固定连接有主混泥土支柱、填料混泥土墙和辅助混泥土支柱，所述填料坑的内底壁设置有回填层，所述回填层的上表面设置有石灰层，所述石灰层的上表面设置有抛填层，所述抛填层的上表面设置有细石子层，所述主混泥土支柱和填料混泥土墙的上表面均与混泥土表层的下表面固定连接。该控制抛填体地基沉降结构，通过设置主混泥土支柱和填料混泥土墙，便于提高该抛填体地基结构的稳定性，通过设置填料混泥土墙，便于方便抛填体的填料和抛填体的夯实，通过设置细石子层和石灰层，便于水的渗漏，防止抛填层内的抛填体下沉，从而减小了该抛填体地基的沉降。

基本信息

专利标题：

一种控制抛填体地基沉降结构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922169428.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-12-06

授权号：

CN211395642U

授权日：

2020-09-01

发明人：

董燕行

申请人：

上海工谷土木工程技术有限公司

申请人地址：

上海市崇明区堡镇大通路407号2幢124室(上海堡镇经济小区)

代理机构：

上海浙晟知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

杨小双

优先权：

CN201922169428.X

主分类号：

E02D3/08

IPC分类号：

E02D3/08 E02D27/34