储液设备以及晶圆处理装置
授权
摘要
该实用新型涉及一种储液设备以及晶圆处理装置，能够提高旋涂至目标表面的光阻层的质量，避免最终的光刻结果不佳，提高晶圆生产的良率。其中所述储液设备包括液体缓冲槽，用于盛装液体，还包括超声波震荡器，安装至所述液体缓冲槽，用于使所述液体缓冲槽内盛装的液体震动，以排出所述液体缓冲槽内盛装的液体内的气泡；所述超声波震荡器内设置有换能器，由所述换能器将超声波发射至所述液体缓冲槽内。
基本信息
专利标题 ：
储液设备以及晶圆处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922177962.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-06
授权号 ：
CN211488381U
授权日 ：
2020-09-15
发明人 ：
董佳仁林育震
申请人 ：
长鑫存储技术有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市蜀山区经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室
代理机构 ：
上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
孙佳胤
优先权 ：
CN201922177962.5
主分类号 ：
B05C11/10
IPC分类号 ：
B05C11/10 B05C11/11 H01L21/67
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05C
一般对表面涂布流体的装置
B05C11/00
在B05C1/00至B05C9/00中没有专门列入的部件、零件及附件
B05C11/10
液体或其他流体的存贮、供给或控制，过量液体或其他流体的回收
法律状态
2020-09-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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