一种具有气流导向功能的沉积炉
授权
摘要
本实用新型公开了一种具有气流导向功能的沉积炉，内外壁待涂层的石墨筒放置在所述沉积炉的内部，石墨筒的底部通过支撑柱连接到炉底座；所述炉底座上设有喷嘴；喷嘴安装有气流导向装置以调控气流的喷射。其中，气流导向装置包括喷嘴盖、导向管、喷嘴座和分布板；喷嘴盖与喷嘴连接，喷嘴盖通过导向管连接到喷嘴座，喷嘴座的顶部设有分布板，喷嘴座的底部与炉底座连接。有益效果：(1)该气流导向装置能够方便地调节气流流向，使石墨件内外壁沉积均匀，从而保证被沉积石墨件的产品品质，延长使用寿命。(2)该工装导向管长度可调，可适用于各类不同直径大小的石墨筒。
基本信息
专利标题 ：
一种具有气流导向功能的沉积炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922190522.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-10
授权号 ：
CN210945778U
授权日 ：
2020-07-07
发明人 ：
张春伟汪勋江扣龙潘星宇
申请人 ：
江苏协鑫特种材料科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省徐州市金桥山经济技术开发区杨山路66号
代理机构 ：
江苏圣典律师事务所
代理人 ：
胡建华
优先权 ：
CN201922190522.3
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455 C23C16/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2020-07-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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