一种磁共振专用屏蔽室
授权
摘要

本实用新型公开了一种磁共振专用屏蔽室,涉及磁共振技术领域,包括屏蔽室,所述屏蔽室包括基板和吸声层,所述基板与吸声层之间设置有第一粘合层,所述吸声层的右侧固定安装有第二粘合层,所述屏蔽室的正面设置有屏蔽门,所述屏蔽门的左侧固定安装有合页,所述屏蔽室的正面设置有观察口,所述观察口包括透明玻璃和滑槽,所述透明玻璃与屏蔽室的正面固定连接,所述滑槽设置为两个,两个所述滑槽呈对称分布。该磁共振专用屏蔽室,通过设置透明玻璃、滑槽、活动挡板、凸块和限位板,通过推动凸块,使活动挡板在滑槽内滑动,工作人员可以通过透明玻璃观察到屏蔽室内部情况,方便快捷,方便工作人员掌握屏蔽室内部的情况。

基本信息
专利标题 :
一种磁共振专用屏蔽室
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922194639.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-10
授权号 :
CN211206763U
授权日 :
2020-08-07
发明人 :
张宗良陶国彩
申请人 :
张家港市惠科电子有限责任公司
申请人地址 :
江苏省苏州市张家港市杨舍镇泗港张杨路北
代理机构 :
苏州欣达共创专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
刘盼盼
优先权 :
CN201922194639.9
主分类号 :
G01R33/42
IPC分类号 :
G01R33/42  A61B5/055  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01R
测量电变量;测量磁变量
G01R33/00
测量磁变量的装置或仪器
G01R33/20
涉及磁共振
G01R33/28
G01R33/44到G01R33/64各组中仪器的零部件
G01R33/42
屏蔽
法律状态
2020-08-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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