用于涂覆容器的设备
授权
摘要
本实用新型涉及一种用于涂覆容器的设备，具有：用于产生真空的至少一个真空装置；用于以等离子体涂覆容器的至少一个处理站，其中处理站与真空装置流体连通，并且其中处理站具有能够被引入至容器中的至少一个处理装置；用于在输送路径P上输送容器的传送装置；和用于接收至少一个容器的至少一个支撑元件，其中支撑元件能够相对于容器的输送路径P沿不同于零的方向移动且适于将容器引入至处理站中，其中封闭元件被布置在支撑元件上且适于以基本上不透气的方式封闭处理站。实用新型所要解决的技术问题是处理站位于旋转设备的旋转部件上，处理站和加工介质都承受着高离心力。实用新型的用途是使旋转设备相对灵活。
基本信息
专利标题 ：
用于涂覆容器的设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922206504.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-10
授权号 ：
CN212103003U
授权日 ：
2020-12-08
发明人 ：
约亨·克鲁格迈克尔·纽鲍尔
申请人 ：
克隆尼斯股份有限公司
申请人地址 ：
德国新特劳普林
代理机构 ：
北京博雅睿泉专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
石伟
优先权 ：
CN201922206504.X
主分类号 ：
C23C16/54
IPC分类号 ：
C23C16/54 B65G49/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/54
连续镀覆的专用设备
法律状态
2020-12-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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