防伪结构
授权
摘要
一种防伪结构，包括基底、光栅层和保护层，光栅层设置在基底上，保护层设置在光栅层上，光栅层上设有用于产生非对称性衍射的光栅结构。本实用新型的防伪结构能实现在对称入射角度的情况下，衍射光的出射位置相同、亮度不同，具备明暗差别对比效果，起到防伪功效，并且结构简单、易于批量制造，成本较低。
基本信息
专利标题 ：
防伪结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922208055.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-10
授权号 ：
CN211014702U
授权日 ：
2020-07-14
发明人 ：
罗明辉乔文浦东林李瑞彬陈林森
申请人 ：
苏州苏大维格科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区新昌路68号
代理机构 ：
上海波拓知识产权代理有限公司
代理人 ：
蔡光仟
优先权 ：
CN201922208055.2
主分类号 ：
G02B5/18
IPC分类号 ：
G02B5/18
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/18
衍射光栅
法律状态
2020-07-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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