多方位调节机构及其检测设备
授权
摘要

本实用新型公开了一种多方位调节机构以及检测设备,包括:位移调节板,其固定在光学检测设备上,且位于检测区域上方,所述位移调节板设置有第一滑槽;工作距离调节板,其滑接于所述第一滑槽中,所述工作距离调节板上设置有第二滑槽;以及角度调节装置,其滑接于所述第二滑槽内。本实用新型通过设置在两个方向的滑道可以在面板的两个方向调节侧视相机与面板的位置,从而可以精确地调节侧视相机照射到面板上的区域,并通过一个角度调节装置对角度进行微调,进而营造出更佳的拍摄视角,该结构简单,占用空间小,制造方便且成本低。

基本信息
专利标题 :
多方位调节机构及其检测设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922217862.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-12
授权号 :
CN211347901U
授权日 :
2020-08-25
发明人 :
易洁
申请人 :
武汉精立电子技术有限公司;武汉精测电子集团股份有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市东湖新技术开发区流芳园南路22号
代理机构 :
武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
罗敏清
优先权 :
CN201922217862.0
主分类号 :
G01N21/01
IPC分类号 :
G01N21/01  G01N21/95  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/01
便于进行光学测试的装置或仪器
法律状态
2020-08-25 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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