一种具有VDF回收结构的聚偏氟乙烯聚生产系统
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了一种具有VDF回收结构的聚偏氟乙烯聚生产系统，包括VDF储罐、供料压缩机、聚合釜、气柜、真空机组Ⅰ和真空机组Ⅱ；所述真空机组Ⅰ进气口连接第一抽气管，第一抽气管分别与多个聚合釜的抽气口连接，所述真空机组Ⅱ通过第二抽气管分别与多个聚合釜的抽气口连接，且第二抽气管与聚合釜之间均串接有阀门，真空机组Ⅱ排气口连接气柜。本实用新型通过在供料压缩机进出口管路上设置回收管以及用于回收聚合釜内VDF气体的两组真空机组，实现将VDF回收储存至气柜，实现了聚偏氟乙烯集合反应工段VDF气的回收再利用，达到了原料回收增产增效的目标，减少了大气污染。
基本信息
专利标题 ：
一种具有VDF回收结构的聚偏氟乙烯聚生产系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922231098.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-12
授权号 ：
CN211057009U
授权日 ：
2020-07-21
发明人 ：
董付文赵海涛徐德华
申请人 ：
山东德宜新材料有限公司
申请人地址 ：
山东省德州市临邑县恒源经济开发区富民路南首
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201922231098.2
主分类号 ：
C08F14/22
IPC分类号 ：
C08F14/22 C08F2/01 B01J3/04 B01J3/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08F
仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物
C08F14/00
具有1个或更多的不饱和脂族基化合物的均聚物或共聚物，每个不饱和脂族基只有1个碳-碳双键，并且至少有1个是以卤素为终端
C08F14/18
含氟的单体
C08F14/22
偏二氟乙烯
法律状态
2021-11-19 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C08F 14/22
申请日 : 20191212
授权公告日 : 20200721
终止日期 : 20201212
申请日 : 20191212
授权公告日 : 20200721
终止日期 : 20201212
2020-07-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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